Il progetto si propone di inserire H ed N in nanocavità pulite di silicio per studiarne le reazioni in fase gassosa e con le superfici delle cavità. Le cavità nanometriche
saranno realizzate tramite impianto He e successivi trattamenti termici. Col trattamento termico si ha l'aggregazione di He in bolle ed il suo successivo rilascio dal campione. Le bolle lasciano cavità con superfici pulite. H ed N verranno inseriti principalmente per impiantazione ionica. La diffusione delle specie N ed H verso le cavità sarà anche favorita da trattamenti termici. All'interno del progetto di ricerca nazionale, l'unità di ricerca avrà il compito di caratterizzare con diverse tecniche spettroscopiche (microscopia Raman,fotoluminescenza, e annichilazione di positroni) i campioni prodotti nell'ambito del programma coordinato.